Trung Quốc nhắm đến an ninh chip công nghệ cao với máy cấy ion nội địa

Trung Quốc đã đạt được một bước đột phá quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn với việc phát triển máy cấy ion hydro năng lượng cao đầu tiên mang tên POWER-750H, được Viện Năng lượng Nguyên tử Trung Quốc công bố. Thiết bị tiên tiến này, được mô tả như một “dao mổ vi mô,” đóng vai trò then chốt trong việc cấy các ion chính xác vào các tấm wafer silicon, một quy trình quan trọng trong chế tạo chip. POWER-750H được cho là đạt tiêu chuẩn quốc tế hàng đầu, đánh dấu một bước tiến lớn nhằm giảm sự phụ thuộc của Trung Quốc vào công nghệ cấy ion nhập khẩu, vốn bị hạn chế bởi các kiểm soát nước ngoài và độc quyền thị trường. Việc phát triển này tận dụng chuyên môn của Trung Quốc trong lĩnh vực vật lý hạt nhân và công nghệ tăng tốc, cho phép nước này tự thiết kế và sản xuất các máy cấy ion hydro năng lượng cao loại tandem. Cấy ion là một trong “bốn công cụ cốt lõi” trong sản xuất chất bán dẫn, thiết yếu để tạo ra cấu trúc bên trong của chip như transistor và diode. Việc đạt được các chùm ion năng lượng cao ổn định có thể hoạt động đáng tin cậy trong thời gian dài đã đặt ra những thách thức kỹ thuật lớn, mà Trung Quốc hiện đã vượt qua. Thành tựu này bổ sung cho những nỗ lực rộng lớn hơn...