Chiêu trò siêu lạnh mới của Trung Quốc có thể giảm 99% lỗi trên vi mạch

Các nhà nghiên cứu Trung Quốc từ Đại học Bắc Kinh, Đại học Thanh Hoa và Đại học Hồng Kông đã phát triển một kỹ thuật hiển vi điện tử đông lạnh (cryo-ET) mới nhằm giảm đáng kể các khuyết tật trong sản xuất vi mạch, đặc biệt là trong quá trình quang khắc. Quang khắc là quá trình sử dụng ánh sáng để tạo mẫu mạch trên các tấm silicon được phủ lớp nhạy sáng, nhưng các hạt vi mô hình thành trong giai đoạn phát triển hóa học thường gây ra các khuyết tật làm hỏng chip, đặc biệt ở các node tiên tiến 5 nanomet hoặc nhỏ hơn. Trước đây, các nhà sản xuất không thể quan sát chi tiết hành vi của dung dịch phát triển nhạy sáng, khiến việc xác định nguyên nhân khuyết tật trở nên khó khăn. Bằng cách nhanh chóng làm đông lạnh dung dịch phát triển ở nhiệt độ –175°C giữa quá trình và sử dụng kỹ thuật hiển vi điện tử tạo ảnh 3D ở cấp độ phân tử, nhóm nghiên cứu đã phát hiện ra rằng các polymer nhạy sáng tạo thành các đám rối thông qua các tương tác kỵ nước yếu, tạo thành các hạt kích thước 30–40 nm. Khoảng 70% các phân tử này không hòa tan đúng cách và tích tụ tại giao diện không khí - dung dịch, sau đó tái lắng đọng trên...