Công cụ nguồn sáng tia cực tím cỡ bàn mới đưa Trung Quốc tiến gần hơn đến tự chủ chip

Các nhà nghiên cứu Trung Quốc đã phát triển một nguồn sáng lithography cực tím (EUV) kích thước để bàn mới có khả năng sản xuất vi mạch 14 nanomet. Khác với các máy EUV truyền thống của ASML, vốn có kích thước lớn, tiêu thụ nhiều điện năng và dựa vào hệ thống plasma tạo laser phức tạp với các giọt thiếc và gương thu lớn, thiết bị mới này sử dụng phương pháp tạo hài bậc cao (HHG) bằng cách bắn laser femtosecond vào khí argon. Cách tiếp cận này loại bỏ nhu cầu sử dụng các gương khổng lồ và giọt thiếc, tạo ra một hệ thống đơn giản hơn rất nhiều, nhỏ gọn và tiết kiệm năng lượng hơn, chỉ tiêu thụ khoảng 1 microwatt mỗi lần phát sáng—ít hơn nhiều so với 200 watt mà các máy ASML yêu cầu. Mặc dù không thể hỗ trợ sản xuất hàng loạt các chip tiên tiến, thiết bị này rất phù hợp cho sản xuất số lượng nhỏ, kiểm tra chip, phát hiện lỗi trên mặt nạ quang học và tạo mẫu chip lượng tử. Công nghệ mới này đánh dấu một bước tiến quan trọng hướng tới mục tiêu tự chủ của Trung Quốc trong việc phát triển các công cụ sản xuất chip cao cấp giữa bối cảnh các hạn chế về...